ステップカバレージ性に優れた成膜

大面積バッチ処理用プラズマCVD装置にて、逆メサ形状にパッシベーション膜としてSiNを成膜した結果。

良好なステップカバレージ性にて被覆できています。

使用している製品

PD-3800L