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SiN成膜の応力再現性
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プラズマCVD
窒化膜の成膜(SiH4-SiN)
SiN成膜の応力再現性
長期間隔の膜応力再現性
量産用プラズマCVD装置でのSiN成膜特性。
長期間経過しても応力変化のない、安定した成膜を達成しています。
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