感應耦合式電漿蝕刻(ICP-RIE)系統RIE-800iPC
極佳的重複性及穏定性
概要
高精密度的電漿蝕刻系統是採用電感偶合式電漿(inductively coupled plasma)放電模式. 具備真空晶圓裝卸(cassette)室及大規模生產所需的重複性及穏定性.
特色
新的ICP電漿源"HSTC™: Hyper Symmetrical Tornado Coil(超對稱旋渦線圈)
能有效且穏定地使用高功率射頻(2 kW or more)同時保持良好的均勻性.
高排氣系統
排氣系統直接連接反應室可提供小氣流, 小氣壓到大氣流, 大氣壓的多種條件的製程.
下電極升降機構
最佳化的晶圓與電漿距離, 保持平面上的均勻性.
易於保養的設計
渦輪真空幫浦(TMP) 整合為1個組件. 易於更換.
應用
專為化合物半導體(例如: GaN, GaAs, InP. ettc)的高精密製程.
SiC及SiO₂的高速製程.
蝕刻鐵電性材料(PZT, BST, SBT, SBT), 電極材料 (Pt, Au, Ru, Al) 以及其他難蝕刻的材料.
化合物晶圓的電漿切割及薄化製程.
