類鑽碳膜(DLC)沉積設備 PD-100D
沉積DLC膜的專門設備
概要
PD-100D使用液態和氣態源，是專爲沉積DLC (Diamond-like Carbon)薄膜的電漿CVD設備。不需加熱基板就能於陰極端的高離子能量的鞘層內形成薄的以及厚的鑽石狀硬質碳膜。
特色
- 沉積速度比既有的濺鍍法更快
- 從薄到厚(20~30 μm)皆可沉積高硬度及低應力的膜
- 良好的穩定性
- 可廣範圍的控制薄膜特性