当社は自社施設敷地（京都市伏見区竹田田中宮町93番地）に建設を計画しておりました第三研究開発棟の『地鎮祭』を、4月25日（木）に執り行いました。

　

　地鎮祭は、伏見区の城南宮を斎主に、当社役員のほか、執行役員、技術開発部員、施工業者、メディア関係者など約30名が参列のうえ執り行われ、工事の安全を祈願いたしました。

　土地の神様に工事の開始を奉告する「地鎮の儀」では、盛砂に代表取締役会長 兼 CEO 辻 理が斎鋤（いむすき）を入れ、土地の神様を鎮め工事の安全と事業の繁栄を祈願いたしました。続いて、神酒拝戴（しんしゅはいたい）では京都の酒蔵会社の日本酒にてお祝いし、ご参列の皆様とともに建屋工事の安全、そして将来の成功を祈願いたしました。

　

　第三研究開発棟は、12月中旬に完成を予定しており、稼働を開始する予定です。最新の設備を導入し、従業員にとって魅力的で働きやすい環境を整備いたします。多様な従業員が活躍し、多様なアイディアから生まれる革新的な製品やサービスを通して、より良い社会の実現に貢献していきたいと考えております。 　

　

●地鎮祭の様子

地鎮の儀

　

神酒拝戴

　

　

●完成イメージ

　

●第三研究開発棟の新設の意義、目的について

　当社は1991年に設立した研究開発センター（京都市伏見区竹田田中宮町94番地）で化合物半導体向けのCVD装置、ドライエッチング装置のプロセス開発を行ってきました。近年、当社には化合物半導体の研究開発用装置だけでなく、生産用装置の要望が増加してきており、2021年には電子デバイス製造向けクラスターツールシステム「クラスターH™」の販売を開始し、本クラスターツールシステムの拡販のための研究開発機能の拡充を主目的として第三研究開発棟を新設いたします。

　今回新設する第三研究開発棟では、生産が本格化するSiCパワーデバイス、GaNパワー/RFデバイス、GaAs VCSEL、MEMS、高周波フィルターなどの分野で高度化するニーズに応えるため、最先端の設備を用意いたします。約180平方メートルのクリーンルームはクラス1,000（米国連邦規格）の清浄度で、ポンプ類はバックヤードに設置し、パーティクルの発生を抑え、生産工場と環境を合わせます。

　最新の生産用装置や、走査電子顕微鏡（SEM）、膜厚計などの計測機器を刷新し、効率的かつスピーディな研究開発を進めることができます。クラスターツールシステムの拡販のための開発を重点的に行い、生産工場への参入を狙います。また、計画的に増員を行い、顧客・マーケットのニーズに即応した開発体制で、当社の研究開発の中核拠点とする予定であります。現在の研究開発センターの機能は第三研究開発棟に移行いたします。

　第三研究開発棟の開設後、現在の研究開発センターには旧式装置などを残し「研修センター」として製品のサポート・サービスのトレーニングを行う場として活用いたします。また、産学連携拠点として、大学・研究機関との連携なども検討しております。

 

■第三研究開発棟 概要

　所在地　：京都市伏見区竹田田中宮町93番地（現研究開発センター隣接）

　建物概要：地上2階建て、鉄骨造。延床面積：約860平方メートル

　建設計画：2024年5月上旬着工、2024年12月中旬完成（予定）

　施設構成：研究開発棟（1階：研究施設、2階：事務所）

　人員　　：20～30名

＜お問い合わせ先＞
サムコ株式会社
広報・IR室　林 陽一
TEL　(075)621-7841
E-mail koho@samco.co.jp