当社は、CVD装置・ALD装置の事業強化を目的として本社の近接地に位置する第2生産技術棟内にCVD装置のデモルームを設置し、7月10日（金）より運用を開始します。
デモルームには、保護膜や絶縁膜に用いられるシリコン窒化膜やシリコン酸化膜を形成するプラズマCVD装置、高速かつ低ストレスでシリコン酸化膜の厚膜を形成するサムコ独自のLS（Liquid Source＝液体ソース）CVDⓇ装置、ALD装置などのデモ機のほか、各種膜厚計や薄膜の評価、応力測定などの測定機器を設置しています。国内外企業からのサンプルのデモ処理のほか、大学・研究機関・企業など社外との共同研究もこれまで以上に行っていく計画であり、その拠点としても活用していく予定です。
当社はCVD装置の専門メーカーとして1979年に創業し、近年は化合物半導体プロセス向けを中心に微細加工を行うドライエッチング装置の販売を大きく伸ばしてきました。従来からのCVD装置、ドライエッチング装置、ドライ洗浄装置の3本柱を維持しながら、新規のCVD装置のデモルームを活用していくことで、CVD装置・ALD装置などの事業を年間20億円から25億円程度に伸ばすべくデモンストレーションを行い、拡販を進めていきます。
