日本語
MENU
閉じる
大面積平行平板型RIE装置による、SiO₂の異方性加工結果です。
ウエハ複数枚を均一性よく一括処理することが可能です。
使用している製品
RIE-300NR
前へ
一覧へ
次へ
↑
