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RIE-10NRによるSiO2のトレンチ加工例。S…
使用している製品
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グレースケール露光を行った厚膜レジストを用いた石英…
使用している製品
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グレースケール露光を行った厚膜レジストを用いた石英…
使用している製品
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研究開発用装置RIE-400iPBにより、幅5 μ…
使用している製品
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大面積平行平板型RIE装置による、SiO₂の異方性…
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ICPエッチング装置による、SiO₂の高速加工結果…
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ICPエッチング装置による、石英の150 μmの深…
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