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研究開発用シリコン深掘り装置RIE-400iPBにより、幅3 μm、深さ70 μmの高アスペクト比構造を形成しています。レジストに対するシリコンの選択比は100:1程度。
《ご提供》
山形県工業技術センター様
プラスチックス 2018年12月号より引用
使用している製品
RIE-800iPB
RIE-800BCT
RIE-400iPB
技術資料
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