液体原料SN-2によるSiNxの成膜

《九州大学 横山研究室 ご提供》

リング半径が100 μmと小型にも関わらず、2.4 x 10⁵ という高いQ値のリング共振器を作製しています。

SiNxは石英と比較して2.0程度の高屈折率が得られますが、SiとNの比率によって屈折率は大きく変化するため制御が困難です。

液体ソースCVD®装置Model: PD-100STを用いて屈折率1.99と理想的な屈折率を持つSiNx膜を成膜しています。さらに、SiNx 異方性エッチングにICPエッチング装置Model: RIE-400iPを使用しています。

小径の高Q値SiNxリング共振器は、フィルターとして光取り出し効率向上が期待されています。

≫Samco-Interview 九州大学 横山士吉先生