ICPエッチング装置
放電形式に誘導結合プラズマ（Inductively Coupled Plasma）を採用しており、高密度プラズマを安定して生成し、高精度の加工が可能です。
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ICPエッチング装置 RIE-800iPC
フラッグシップ真空カセットモデル
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ICPエッチング装置 RIE-800iP
フラッグシップロードロックモデル
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ICPエッチング装置 RIE-400iP
化合物半導体用省スペース装置
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ICPエッチング装置 RIE-400iPC
化合物半導体用真空カセット装置
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ICPエッチング装置 RIE-230iP
実績豊富な汎用装置
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ICPエッチング装置 RIE-230iPC
⌀230 mmトレイ搬送装置
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ICPエッチング装置 RIE-150HiC
大気搬送Wカセット装置
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ICPエッチング装置 RIE-350iPC
⌀350 mmトレイ搬送装置
シリコン深掘り装置
シリコン（Si）の高速かつ高異方性の深掘りが可能な、ボッシュプロセス対応の装置です。
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Si深掘り装置 RIE-800BCT
大気搬送プラットフォーム
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Si深掘り装置 RIE-800iPB
ø8インチ対応ロードロック装置
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Si深掘り装置 RIE-400iPB
Si深掘り&SiO2高速加工
RIE装置
創業当時から培ってきた豊富な経験と実績をもとに開発した平行平板型RIE（反応性イオンエッチング）装置です。
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平行平板型RIE装置 RIE-10NR
豊富な納入実績を誇る汎用機
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平行平板型RIE装置 RIE-200NL
塩素対応のロードロック式装置
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平行平板型RIE装置 RIE-200C
高速大気搬送のカセット装置
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平行平板型RIE装置 RIE-300NR
ø300mm対応RIE装置
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コンパクトエッチャ― FA-1
コンパクトな卓上型装置
XeF2ドライエッチング
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XeF2ドライエッチング装置 VPE-4F
コンパクトな卓上型装置
