製品情報プラズマCVD装置 PD-3800L

PD-3800Lは、ø360mmの大面積トレイに小径ウエハを多数枚設置して同時に成膜することができる量産用プラズマCVD装置です。ロードロック室を装備しており、プロセス安定性に優れています。化合物半導体やシリコンプロセスでの層間絶縁膜、パッシベーション膜として、各種シリコン系薄膜（SiO₂、SiN、アモルファスSi等）を成膜できます。

小径ウエハの多数枚同時成膜
ø360mmの大面積トレイで小径ウエハの多数枚同時成膜が可能です。（ø2”×26枚、ø3”×12枚、ø4”×7枚、ø6”×3枚）

優れたトレイ面内均一性
独自の反応室構造により、優れた面内均一性とバッチ間安定性を実現しています。

ロードロック室を搭載
安定したプロセスが可能です。

各種シリコン系薄膜の形成
シリコン窒化膜、シリコン酸化膜、アモルファスシリコン膜の形成が可能です。

ウエハ移載機により、カセット⇔トレイ間の自動搬送が可能になり、省力化と歩留まりアップに寄与します。