半導体の表面を洗浄する装置です。薬液を使用しない完全ドライ方式による洗浄装置です。
　半導体製造の各工程において、汚染や副生成物が発生します。洗浄装置はそれらを除去し、表面を洗浄することで、半導体の信頼性を高めています。
　ドライ洗浄装置は、薬液を使用するウェット洗浄装置で必要な薬液を洗い流すリンスと乾燥の工程が不要であるため、少ない工程での洗浄が可能です。
　当社では、プラズマを利用したガスを用いるプラズマクリーナーと紫外線（UV）とオゾン（O₃）を併用したUVオゾンクリーナーと2種類のドライ洗浄装置を製造しています。研究用の小型卓上型装置から、量産用装置まで取り揃えています。

→サムコ株式会社のドライ洗浄装置